ICP-MS Mass Spectrometer

Sifa za Mfano wa ICP-MS MassSpectrometer PlasmaMS300:

Quadrupole Analyzer

Quadrupole yenye matokeo ya juu (anuwai ya wingi wa uchanganuzi: 1-265 amu) inaweza kukidhi kikamilifu mahitaji ya uchanganuzi wa vipengele vya juu (<0.8 amu).

Kupitia utumiaji wa teknolojia ya ugavi wa umeme wa quadrupole RF na teknolojia ya DDS (Direct Digital Frequency Synthesis), inaweza kufikia ulinganishaji wa masafa ya kiotomatiki na kuleta uthabiti na udumishaji wa ajabu.

Mfumo wa Utupu

Pampu ya molekuli ya turbo ya utendaji wa juu na pampu ya nje ya mitambo inaweza kufikia haraka utupu wa juu wa chombo na kuhakikisha unyeti wa ishara. Mfumo kamili wa udhibiti wa utupu unaweza kuhakikisha utulivu wa muda mrefu wa uendeshaji wa chombo.

27.12 MHz jenereta ya RF Iliyounganishwa kwa Kufata kwa Kufata

Kwa kutumia jenereta ya hali dhabiti ya RF yenye uthabiti wa juu sana wa nguvu na muundo mzuri wa kulinda, PlasmaMS 300 inaweza kuhakikisha uthabiti wa chanzo na mawimbi ya ayoni. Kwa kuongeza, kupitishwa kwa jukwaa la pande tatu linalodhibitiwa kwa usahihi hutambua nafasi ya kiotomatiki na urekebishaji wa tochi.

Ubadilishaji Rahisi wa Mbinu za Utangulizi za Sampuli

Lango za kuunganishwa na vifaa vya nje vya sampuli kama vile uondoaji wa leza na kromatografia ya kioevu hutolewa, nafasi ya kusanyiko ya kifaa cha kupoeza semicondukta imehifadhiwa, na mfumo wa sampuli unaostahimili asidi ya HF (Vifaa vya Hiari) unaweza kuwashwa.

Mfumo wa Kiini cha Mgongano

Seli ya mgongano, inayoendeshwa na kidhibiti cha mtiririko wa wingi wa utendaji wa juu na programu ya kudhibiti gesi, inaweza kukamilisha haraka kielelezo cha mgongano wa heliamu na kuondoa kuingiliwa kwa ufanisi.

Bidhaa Features:

• Kuegemea Bora na Utulivu
  Ikiwa na ugavi wa nguvu wa RF thabiti na wa kudumu, mfumo wa ombwe wenye ulinzi wa dharura na mfumo wa udhibiti wa kiotomatiki, na uendeshaji wa akili wa ufunguo mmoja kwa kukamilisha uchanganuzi na usanidi, PlasmaMS 300 huondoa usumbufu wa binadamu na huhakikisha uthabiti na kurudiwa bora kwa chombo.
• Uwezo Bora wa Uchambuzi
  Chanzo cha ICP cha hali dhabiti chenye utendaji bora wa kulinganisha kinaweza kuzuia usambaaji wa ioni wakati wa mchakato wa uionishaji na kuhakikisha uwezo wa kulenga na kiwango cha juu cha kufaulu cha ayoni. Mfumo wa macho wa ioni wenye mchepuko unaweza kuhakikisha athari bora zaidi ya kulenga ioni, kupunguza kwa ufanisi kelele ya chinichini na hivyo kuboresha uwiano wa mawimbi kati ya kelele.
• Teknolojia ya Kuunganisha Nguvu
  Inaweza kuunganisha kwa urahisi na mfumo wa sampuli wa uondoaji wa leza (LA) na kromatografia ya kioevu (LC). Kwa kuchanganya na mfumo wa LA, PlasmaMS 300 inaweza kutambua sampuli za moja kwa moja za hali dhabiti na kubainisha wakati huo huo maudhui ya vipengele vikuu, vidogo na kufuatilia katika sampuli za erosoli. Mfumo uliounganishwa huepuka mchakato mgumu wa utayarishaji wa sampuli, huboresha sampuli na ufanisi wa majaribio, na huongeza uwezo wa kugundua wa PlasmaMS 300. Kwa kuchanganya na LC, inaweza kufanya uchanganuzi wa vipimo vya vipengele katika dutu za kikaboni, kupanua zaidi uwezo wa kutambua na ufanisi wa PlasmaMS 300 na kutoa ufumbuzi wa kina zaidi wa maombi.
• Mchakato wa Uendeshaji Rafiki Mtumiaji
  Mipangilio angavu na rahisi ya "Bonyeza-Moja" inaweza kuboresha ufanisi wa kazi ya watumiaji, pia kutoa muundo wa ripoti ulioainishwa na mtumiaji kulingana na maombi ya mteja na kusambaza kazi ya QC na kiolesura cha LIMS.
• Matengenezo Rahisi
  Koni zilizo rahisi kutenganishwa na safi na mfumo wa macho wa ioni mkengeushi unaweza kupunguza utuaji wa ioni na kupanua mzunguko wa matengenezo ya chombo. Chanzo cha kudumu cha ICP cha hali dhabiti kinaweza kuhakikisha matumizi yasiyo na matatizo kwa muda mrefu.