酸素・窒素・水素分析装置 ONH-3500

酸素：

• 低酸素：0.1ppm～0.5%
• 高酸素：0.5％～20％

窒素：

• 低窒素：0.1ppm～0.5%
• 高窒素：0.5％～50％

水素：

• 低水素：0.1ppm～200ppm
• 高濃度水素：200ppm～5000ppm

注：*測定量を変更することで測定範囲を変更できます。

酸素、窒素、水素：

• 0.01ppm

• 酸素と窒素：1ppmまたは1%
• 水素：0.2ppmまたは2%

• モジュラー構造
• アナライザーを含む
• パソコン
• 電子天びん
• プリンタ
• 水循環チラー

注: * はオプションです。

酸素には固体赤外線検出器を使用します。窒素と水素には熱伝導検出器を使用します。

• 赤外線セル：分析装置には2つの赤外線セルが搭載されています。各セルの長さは、サンプルの内容に応じてカスタマイズできます。
• 検出器：ドイツ製固体焦電検出器
• モーター：スイス製同期モーター
• 出典：米国製の酸化防止、安定した赤外線エミッター
• 温度制御：赤外線ユニット全体の温度を一定に保ち、検出されたガスの温度が安定し、結果が正確であることを確認します。
• 保護ガス：赤外線エミッターと検出器は窒素によって周囲から分離されており、安定性と精度が向上します。
• 熱伝導率（TCD）検出ユニット：耐酸化NTCサーミスタ
• 信号処理：サーミスタをキャリアガスなしで使用できるようにするための小電流制御技術が開発されました。
• 基準ガス回路：低流量制御技術が使用される

• 電力: 最大7.5KVA
• 温度：最高3000℃

1. 高速キャリブレーション
2. 通常のキャリブレーション